PECVD Grafit – Endüstriyel Sınıf Açıklama

PECVD grafit, plazma ile geliştirilmiş kimyasal buhar biriktirme (PECVD) işlemleri için özel olarak tasarlanmış yüksek performanslı bir grafit bileşenidir. Ultra yüksek saflıkta, ince taneli grafitten üretilmiştir, kirliliğe duyarlı ortamlar için kritik olan mükemmel termal stabilite, homojen iletkenlik ve düşük safsızlık seviyeleri sağlar. Optimize edilmiş mikro yapısı, tutarlı plazma etkileşimi ve alt tabakalar üzerinde homojen film biriktirme sağlar. Düşük termal genleşme ve termal şoka karşı güçlü direnci ile PECVD grafit, hızlı sıcaklık döngüleri altında boyutsal bütünlüğü korur. İsteğe bağlı yüzey kaplamaları oksidasyon direncini ve ömrünü daha da artırır. Yarı iletken üretimi ve ince film biriktirme sistemlerinde yaygın olarak kullanılır, hassas proses kontrolü, tekrarlanabilirlik ve uzun vadeli operasyonel güvenilirlik sağlar.

Sınıf	Yığın Yoğunluğu (g/cm³)	Elektrik Direnci (μΩ·m)	Basınç Dayanımı (MPa)	Eğilme Dayanımı (MPa)	Shore Sertliği	Kül İçeriği (ppm)	Saflaştırılmış Kül: Grafitizasyon (ppm)	Saflaştırılmış Kül: Ürün (ppm)	Termal Genleşme Katsayısı (*10⁻⁶/°C)	Termal İletkenlik W/(m·K)	Young Modülü (GPa)	Uygulamalar
CDI-1A	1.85	10-13	90	45	60	300	50	5	5.5	133	11.5	Yarı İletken, PV Endüstrisinde Isı Bölgesi, Seramik Sinterleme, Vakum fırını
CDI-1B	1.8	10-13	86	40	55	300	50	5	5.4	121	10	Yarı İletken, PV Endüstrisinde Isı Bölgesi, Seramik Sinterleme, Vakum fırını
CDI-1C	1.82	11-15	100	48	58	300	50	5	5.6	120	10.6	Yarı İletken, PV Endüstrisinde Isı Bölgesi, Seramik Sinterleme, Vakum fırını
CDI-1D	1.75	12-16	80	40	58	300	50	5	5.8	108	10	Yarı İletken, PV Endüstrisinde Isı Bölgesi, Seramik Sinterleme, Vakum fırını

PECVD Grafit Fittings Isostatik Grafit Malzemesi Katı Blok

izostatik grafit

grafit ısıtıcılar

PECVD Grafit