PECVD Accesorios de grafito Bloque sólido de material isostático de grafito

Descripción del grafito PECVD de grado industrial

El grafito PECVD es un componente de grafito de alto rendimiento diseñado específicamente para procesos de deposición de vapor químico mejorados por plasma (PECVD).Grafito de grano fino, proporciona una excelente estabilidad térmica, una conductividad uniforme y bajos niveles de impurezas críticos para ambientes sensibles a la contaminación.Su microestructura optimizada asegura una interacción plasmática constante y una deposición uniforme de la película en todos los sustratosCon una baja expansión térmica y una fuerte resistencia al choque térmico, el grafito PECVD mantiene la integridad dimensional bajo ciclos de temperatura rápidos.Los recubrimientos de superficie opcionales mejoran aún más la resistencia a la oxidación y la vida útilAmpliamente utilizado en la fabricación de semiconductores y sistemas de deposición de película delgada, garantiza un control preciso del proceso, repetibilidad y fiabilidad operativa a largo plazo.