PECVD Grafit Deskripsi Kelas Industri

Grafit PECVD adalah komponen grafit berkinerja tinggi yang dirancang khusus untuk proses pengendapan uap kimia plasma yang ditingkatkan (PECVD).Grafit berbutir halus, memberikan stabilitas termal yang sangat baik, konduktivitas seragam, dan tingkat kekotoran yang rendah yang penting untuk lingkungan yang sensitif terhadap kontaminasi.Mikrostruktur yang dioptimalkan memastikan interaksi plasma yang konsisten dan deposisi film seragam di seluruh substratDengan ekspansi termal yang rendah dan ketahanan yang kuat terhadap kejutan termal, grafit PECVD mempertahankan integritas dimensi di bawah siklus suhu yang cepat.Lapisan permukaan opsional lebih meningkatkan ketahanan oksidasi dan umur. Digunakan secara luas dalam manufaktur semikonduktor dan sistem deposisi film tipis, ia memastikan kontrol proses yang tepat, repeatability, dan keandalan operasional jangka panjang.

Kelas	Densitas bulk (g/cm3)	Resistensi listrik (μΩ·m)	Kekuatan kompresi (MPa)	Kekuatan lentur (MPa)	Kekerasan Pantai	Kandungan abu (ppm)	Abu yang dimurnikan: Grafitisasi (ppm)	Abu yang dimurnikan: Produk (ppm)	Koefisien Ekspansi Termal (*10−6/°C)	Konduktivitas termal W/m·K	Young's Modulus (GPa)	Aplikasi
CDI-1A	1.85	10-13	90	45	60	300	50	5	5.5	133	11.5	Semikonduktor, zona panas di industri PV, Sintering Keramik, tungku vakum
CDI-1B	1.8	10-13	86	40	55	300	50	5	5.4	121	10	Semikonduktor, zona panas di industri PV, Sintering Keramik, tungku vakum
CDI-1C	1.82	11-15	100	48	58	300	50	5	5.6	120	10.6	Semikonduktor, zona panas di industri PV, Sintering Keramik, tungku vakum
CDI-1D	1.75	12-16	80	40	58	300	50	5	5.8	108	10	Semikonduktor, zona panas di industri PV, Sintering Keramik, tungku vakum

Fitting Grafit PECVD Bahan Grafit Isostatik Blok Padat

grafit isostatik

pemanas grafit

Grafit PECVD