PECVD-Graphit Beschreibung der industriellen Qualität

PECVD-Graphit ist eine hochleistungsfähige Graphitkomponente, die speziell für plasmaverstärkte chemische Dampfdeposition (PECVD) -Prozesse entwickelt wurde.Feinkörnergraphit, bietet eine ausgezeichnete thermische Stabilität, einheitliche Leitfähigkeit und geringe Verunreinigungswerte, die für kontaminierungsempfindliche Umgebungen von entscheidender Bedeutung sind.Seine optimierte Mikrostruktur sorgt für eine gleichbleibende Plasma-Wechselwirkung und eine gleichmäßige Folienablagerung über Substrate hinweg. Mit geringer thermischer Expansion und starker Widerstandsfähigkeit gegen thermische Stoßbelastungen behält PECVD-Graphit unter schnellen Temperaturkreisläufen die Dimensionsintegrität.Optionale Oberflächenbeschichtungen verbessern die Oxidationsbeständigkeit und Lebensdauer weiterEs wird häufig in der Halbleiterherstellung und in Dünnschichtdeponierungssystemen eingesetzt und gewährleistet eine präzise Prozesssteuerung, Wiederholbarkeit und langfristige Betriebssicherheit.

Zulassung	Massendichte (g/cm3)	Elektrische Widerstandsfähigkeit (μΩ·m)	Druckfestigkeit (MPa)	Flexurierende Festigkeit (MPa)	Festung der Küste	Aschegehalt (ppm)	Reinigte Asche: Graphitierung (ppm)	Reinigte Asche: Produkt (ppm)	Koeffizient der thermischen Ausdehnung (*10−6/°C)	Wärmeleitfähigkeit W/m·K	Young-Modul (GPa)	Anwendungen
CDI-1A	1.85	10 bis 13	90	45	60	300	50	5	5.5	133	11.5	Halbleiter, Wärmezone in der Photovoltaikindustrie, Keramiksintern, Vakuumöfen
CDI-1B	1.8	10 bis 13	86	40	55	300	50	5	5.4	121	10	Halbleiter, Wärmezone in der Photovoltaikindustrie, Keramiksintern, Vakuumöfen
CDI-1C	1.82	11 bis 15	100	48	58	300	50	5	5.6	120	10.6	Halbleiter, Wärmezone in der Photovoltaikindustrie, Keramiksintern, Vakuumöfen
CDI-1D	1.75	12 bis 16	80	40	58	300	50	5	5.8	108	10	Halbleiter, Wärmezone in der Photovoltaikindustrie, Keramiksintern, Vakuumöfen

PECVD Graphit-Formteile Isostatisches Graphitmaterial Massivblock

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