Semiconductores de grafito isostático de alta densidad y fabricación de electrónica

Semiconductores de grafito isostático de alta densidad y fabricación de electrónica
Propiedades básicas
Lugar de origen: Porcelana
Nombre de la Marca: Fangda
Certificación: Iso9001
Propiedades comerciales
Cantidad mínima de pedido: 1 pieza
Resumen del producto
Grado Densidad a granel (g/cm3) Resistencia eléctrica (μΩ⋅m) Resistencia a la compresión (MPa) Resistencia a la flexión (MPa) Dureza de la orilla Contenido en cenizas (ppm) Expansión térmica (*10−6/°C) La conductividad térmica W/(m⋅K Modulo de Young (GPa) Aplicaciones El CDI-S1 1.8 12.5 90 45 58 5 4...
Atributos personalizados del producto
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Grafito isostático de alta densidad

,

Semiconductor de grafito isostático

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Fabricación de productos electrónicos Grafito isostático

Material:
grafito isostático
Color:
Negro
Forma:
Bloque sólido
Descripción del Producto
Especificaciones y Características Detalladas
Grado Densidad a granel (g/cm3) Resistencia eléctrica (μΩ⋅m) Resistencia a la compresión (MPa) Resistencia a la flexión (MPa) Dureza de la orilla Contenido en cenizas (ppm) Expansión térmica (*10−6/°C) La conductividad térmica W/(m⋅K Modulo de Young (GPa) Aplicaciones
El CDI-S1 1.8 12.5 90 45 58 5 4.5 105 10 Semi-conductores
Los datos de las pruebas de seguridad 1.8 10 75 43 50 5 4.3 140 9 Semi-conductores
El CDI-S3 1.78 11 85 40 45 5 3.8 120 10 Semi-conductores
Grafito isostático de alta densidad para la fabricación de semiconductores y electrónica
El grafito isostático de alta densidad es un material de carbono de primera calidad diseñado para ambientes de fabricación de semiconductores y electrónicos exigentes. Producido mediante tecnología avanzada de prensado isostático,Este grafito presenta una microestructura muy uniforme, que garantiza propiedades físicas y eléctricas consistentes en todas las direcciones.
Características del material
La alta densidad y el tamaño de grano fino hacen que este grafito sea ideal para componentes de precisión utilizados en el procesamiento de obleas, crecimiento de cristales y sistemas de gestión térmica.Este material presenta una excelente conductividad térmica y una resistencia excepcional a los golpes térmicos, lo que permite un rendimiento fiable en ciclos de calentamiento y enfriamiento rápidos.
Ventajas técnicas
  • Bajo coeficiente de expansión térmica minimiza la deformación a temperaturas elevadas
  • Un alto nivel de pureza reduce los riesgos de contaminación durante los procesos de fabricación sensibles
  • Resistencia mecánica superior en comparación con los grados convencionales de grafito
  • La excelente maquinabilidad permite tolerancias ajustadas y acabados de superficie lisos
  • Permite producir componentes de paredes delgadas o de forma compleja sin comprometer la durabilidad
Aplicaciones principales
Las aplicaciones típicas incluyen componentes de hornos semiconductores, portadores de obleas, susceptores, calentadores y accesorios utilizados en la producción de células LED y fotovoltaicas.El material también se aplica ampliamente en equipos de sinterización electrónica y ambientes de vacío de alta temperatura.
Beneficios operativos
Las principales ventajas incluyen una larga vida útil, un rendimiento estable en condiciones térmicas extremas y costos de mantenimiento reducidos.los fabricantes pueden mejorar la eficiencia del proceso, el rendimiento del producto y la fiabilidad operativa general en las líneas de producción de electrónica avanzada.
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