Fabricação de semicondutores de grafite isostática de alta densidade e electrónica
Fabricação de semicondutores de grafite isostática de alta densidade e electrónica
Propriedades Básicas
Local de Origem:
China
Marca:
Fangda
Certificação:
Iso9001
Propriedades comerciais
Quantidade mínima de pedido:
1 peça
Resumo do Produto
Grau Densidade de massa (g/cm3) Resistividade elétrica (μΩ⋅m) Resistência à compressão (MPa) Resistência flexural (MPa) Dureza da costa Teor de cinzas (ppm) Expansão térmica (*10−6/°C) Conductividade térmica W/m⋅K Modulo de Young (GPa) Aplicações CDI-S1 1.8 12.5 90 45 58 5 4.5 105 10 Semicondutores ...
Atributos personalizados do produto
Destacar
Grafite isostático de alta densidade
,Semicondutor de grafite isostático
,Fabricação de electrónica Grafite isostático
Material:
grafite isostático
Cor:
Preto
Forma:
Bloco sólido
Descrição do produto
Especificações e características pormenorizadas
| Grau | Densidade de massa (g/cm3) | Resistividade elétrica (μΩ⋅m) | Resistência à compressão (MPa) | Resistência flexural (MPa) | Dureza da costa | Teor de cinzas (ppm) | Expansão térmica (*10−6/°C) | Conductividade térmica W/m⋅K | Modulo de Young (GPa) | Aplicações |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| CDI-S1 | 1.8 | 12.5 | 90 | 45 | 58 | 5 | 4.5 | 105 | 10 | Semicondutores |
| CDI-S20 | 1.8 | 10 | 75 | 43 | 50 | 5 | 4.3 | 140 | 9 | Semicondutores |
| CDI-S3 | 1.78 | 11 | 85 | 40 | 45 | 5 | 3.8 | 120 | 10 | Semicondutores |
Grafite isostático de alta densidade para fabricação de semicondutores e electrónica
Grafite Isostático de Alta Densidade é um material de carbono premium projetado para ambientes exigentes de fabricação de semicondutores e eletrônicos.,Este grafite apresenta uma microestrutura altamente uniforme, garantindo propriedades físicas e eléctricas consistentes em todas as direcções.
Características do material
A alta densidade e o tamanho dos grãos finos tornam este grafite ideal para componentes de precisão usados no processamento de wafer, crescimento de cristais e sistemas de gerenciamento térmico.Este material apresenta excelente condutividade térmica e resistência excepcional a choques térmicos, permitindo um desempenho fiável em ciclos rápidos de aquecimento e arrefecimento.
Vantagens técnicas
- Baixo coeficiente de expansão térmica minimiza a deformação em temperaturas elevadas
- Um elevado nível de pureza reduz os riscos de contaminação durante processos de fabrico sensíveis
- Resistência mecânica superior em comparação com as classes convencionais de grafite
- Excelente capacidade de mecanização suporta tolerâncias apertadas e acabamentos de superfície lisos
- Permite a produção de componentes de parede fina ou de forma complexa sem comprometer a durabilidade
Aplicações primárias
As aplicações típicas incluem componentes de fornos de semicondutores, portadores de wafer, suscetores, aquecedores e luminárias usadas na produção de células LED e fotovoltaicas.O material também é amplamente aplicado em equipamentos de sinterização eletrônica e ambientes de vácuo de alta temperatura.
Benefícios operacionais
As principais vantagens incluem longa vida útil, desempenho estável em condições térmicas extremas e custos de manutenção reduzidos.Os fabricantes podem melhorar a eficiência dos processos, o rendimento do produto e a fiabilidade operacional geral nas linhas de produção de eletrónica avançada.
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