Grafite Isostatico ad Alta Densità per la Produzione di Semiconduttori ed Elettronica
Grafite Isostatico ad Alta Densità per la Produzione di Semiconduttori ed Elettronica
Proprietà di base
Luogo di origine:
Cina
Marchio:
Fangda
Certificazione:
Iso9001
Proprietà Commerciali
Quantità minima di ordine:
1 pezzo
Riepilogo Prodotto
Grado Densità di massa (g/cm3) Resistenza elettrica (μΩ⋅m) Resistenza alla compressione (MPa) Resistenza alla flessione (MPa) Durezza della riva Contenuto di cenere (ppm) Espansione termica (*10−6/°C) Conducibilità termica W/m⋅K Modulo di Young (GPa) Applicazioni CDI-S1 1.8 12.5 90 45 58 5 4.5 105 ...
Attributi personalizzati del prodotto
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grafite isostatica ad alta densità
,Grafite Isostatico per Semiconduttori
,Grafite Isostatico per la Produzione di Elettronica
Materiale:
grafite isostatica
Colore:
Nero
Forma:
Blocco solido
Descrizione del prodotto
Specifiche e Caratteristiche Dettagliate
| Grado | Densità di massa (g/cm3) | Resistenza elettrica (μΩ⋅m) | Resistenza alla compressione (MPa) | Resistenza alla flessione (MPa) | Durezza della riva | Contenuto di cenere (ppm) | Espansione termica (*10−6/°C) | Conducibilità termica W/m⋅K | Modulo di Young (GPa) | Applicazioni |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| CDI-S1 | 1.8 | 12.5 | 90 | 45 | 58 | 5 | 4.5 | 105 | 10 | Semiconduttori |
| CDI-S20 | 1.8 | 10 | 75 | 43 | 50 | 5 | 4.3 | 140 | 9 | Semiconduttori |
| CDI-S3 | 1.78 | 11 | 85 | 40 | 45 | 5 | 3.8 | 120 | 10 | Semiconduttori |
Grafite isostatica ad alta densità per la produzione di semiconduttori ed elettronica
La grafite isostatica ad alta densità è un materiale di carbonio di alta qualità progettato per ambienti di produzione di semiconduttori ed elettronica esigenti.,Questa grafite presenta una microstruttura altamente uniforme, che garantisce proprietà fisiche ed elettriche coerenti in tutte le direzioni.
Caratteristiche del materiale
L'alta densità e le dimensioni dei grani fini rendono questo grafite ideale per componenti di precisione utilizzati nella lavorazione dei wafer, nella crescita dei cristalli e nei sistemi di gestione termica.Questo materiale presenta un'eccellente conduttività termica e una resistenza eccezionale agli urti termici, consentendo prestazioni affidabili in cicli di riscaldamento e raffreddamento rapidi.
Vantaggi tecnici
- Basso coefficiente di espansione termica riduce al minimo la deformazione a temperature elevate
- Un elevato livello di purezza riduce i rischi di contaminazione durante i processi di produzione sensibili
- Resistenza meccanica superiore rispetto ai tipi convenzionali di grafite
- L'eccellente lavorabilità permette tolleranze strette e finiture lisce della superficie
- Consente la produzione di componenti a pareti sottili o di forma complessa senza compromettere la durata
Applicazioni principali
Le applicazioni tipiche includono componenti di forno a semiconduttori, portatori di wafer, sensibili, riscaldatori e apparecchiature utilizzati nella produzione di celle a LED e fotovoltaiche.Il materiale è ampiamente utilizzato anche in apparecchiature di sinterizzazione elettronica e ambienti a vuoto ad alta temperatura.
Benefici operativi
I principali vantaggi sono la lunga durata di servizio, le prestazioni stabili in condizioni termiche estreme e i costi di manutenzione ridotti.i produttori possono migliorare l'efficienza dei processi, rendimento del prodotto e affidabilità operativa generale nelle linee di produzione di elettronica avanzata.
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