Grafito poroso de alta porosidad de resistencia excepcional Grafito poroso isostático
Grafito poroso de alta porosidad de resistencia excepcional Grafito poroso isostático
Propiedades básicas
Lugar de origen:
Porcelana
Nombre de la Marca:
Fangda
Certificación:
Iso9001
Propiedades comerciales
Cantidad mínima de pedido:
1 pieza
Resumen del producto
Grafito poroso Grafite de alta porosidad con una resistencia excepcional, una distribución estrecha de la apertura y una microestructura uniforme.sistemas de catalizadores, aplicaciones de almacenamiento de hidrógeno y materiales de adsorción avanzados. Aplicaciones en la industria de semiconductore...
Atributos personalizados del producto
Resaltar
Grafito poroso de alta porosidad
,Grafito poroso con una resistencia excepcional
,Grafito isostático poroso
Material:
grafito isostático
Color:
Negro
Forma:
Bloque sólido
Descripción del Producto
Especificaciones y Características Detalladas
Grafito poroso
Grafite de alta porosidad con una resistencia excepcional, una distribución estrecha de la apertura y una microestructura uniforme.sistemas de catalizadores, aplicaciones de almacenamiento de hidrógeno y materiales de adsorción avanzados.
Aplicaciones en la industria de semiconductores y mejora de la calidad de los cristales
- Ajusta la relación C/Si para minimizar la probabilidad de transición de fase
- Filtra las impurezas para mejorar la calidad del cristal
- Proporciona una uniformidad de temperatura superior en las zonas de materia prima
- Mantiene las tasas de flujo de aire constantes durante los procesos de crecimiento del cristal
- Mejora la morfología del cristal y previene la policristallización del borde
Especificaciones técnicas
| Grado | Densidad a granel (g/cm3) | Resistencia eléctrica (μΩ·m) | Resistencia a la compresión (MPa) | Resistencia a la flexión (MPa) | Conductividad térmica W/m·K | Coeficiente de expansión térmica (*10−6/°C) | Porosidad (%) | Porosidad cerrada (%) | Tamaño medio del grano (μm) |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| CTL04K | 1.1 | 40 | 32 | 14.5 | 30 | 5.5 | 46 | 1.5 | 55 |
| CTL05K | 1.2 | 30 | 40 | 19 | 40 | 5.5 | 45 | 2 | 40 |
| CTL06K | 0.9 | 100 | 22 | 9.5 | 25 | 6.7 | 50 | 1.5 | 80 |
Aplicaciones principales
Fabricación de semiconductores, componentes aeroespaciales, nuevos sistemas de energía, tecnología de flotación de aire, estructuras de soporte de catalizadores y aplicaciones industriales avanzadas.
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