Graphite poreux à haute porosité, graphite isostatique poreux à résistance exceptionnelle

Graphite poreux à haute porosité, graphite isostatique poreux à résistance exceptionnelle
Propriétés de base
Lieu d'origine: Chine
Nom de la marque: Fangda
Attestation: Iso9001
Propriétés commerciales
Quantité minimum de commande: 1 pièce
Résumé du produit
Graphite à porosité Graphite à haute porosité, résistance exceptionnelle, répartition de l'ouverture étroite et microstructure uniforme.systèmes de catalyseurs, des applications de stockage de l'hydrogène et des matériaux d'adsorption avancés. Applications dans l'industrie des semi-conducteurs et am...
Attributs personnalisés du produit
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Graphite poreux à haute porosité

,

Graphite poreux à résistance exceptionnelle

,

Graphite isostatique poreux

Matériau:
graphite isostatique
Couleur:
Noir
Forme:
Bloc solide
Description du produit
Spécifications détaillées et caractéristiques
Graphite à porosité
Graphite à haute porosité, résistance exceptionnelle, répartition de l'ouverture étroite et microstructure uniforme.systèmes de catalyseurs, des applications de stockage de l'hydrogène et des matériaux d'adsorption avancés.
Applications dans l'industrie des semi-conducteurs et amélioration de la qualité des cristaux
  • Ajuste le rapport C/Si pour minimiser la probabilité de transition de phase
  • Filtre les impuretés pour améliorer la qualité du cristal
  • Fournit une uniformité de température supérieure dans les zones de matières premières
  • Maintient des débits d'air constants pendant les processus de croissance des cristaux
  • Améliore la morphologie des cristaux et empêche la polycristallisation des bords
Spécifications techniques
Grade Densité en vrac (g/cm3) Résistance électrique (μΩ·m) Résistance à la compression (MPa) Résistance à la flexion (MPa) Conductivité thermique W/m·K Coefficient de dilatation thermique (*10−6/°C) Porosité (%) Porosité fermée (%) Taille moyenne du grain (μm)
CTL04K 1.1 40 32 14.5 30 5.5 46 1.5 55
CTL05K 1.2 30 40 19 40 5.5 45 2 40
CTL06K 0.9 100 22 9.5 25 6.7 50 1.5 80
Applications principales
La fabrication de semi-conducteurs, les composants aérospatiaux, les nouveaux systèmes énergétiques, la technologie de flottaison aérienne, les structures de soutien des catalyseurs et les applications industrielles avancées.
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