Grafite Poroso ad Alta Porosità Eccezionale Resistenza Grafite Isostatica Porosa
Grafite Poroso ad Alta Porosità Eccezionale Resistenza Grafite Isostatica Porosa
Proprietà di base
Luogo di origine:
Cina
Marchio:
Fangda
Certificazione:
Iso9001
Proprietà Commerciali
Quantità minima di ordine:
1 pezzo
Riepilogo Prodotto
Grafite Poroso Grafite ad alta porosità caratterizzato da eccezionale resistenza, distribuzione ristretta delle aperture e microstruttura uniforme. Questo materiale è ampiamente utilizzato nella produzione di semiconduttori, nella tecnologia delle batterie, nei sistemi catalitici, nelle applicazioni ...
Attributi personalizzati del prodotto
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Grafite Porosa ad Alta Porosità
,Grafite Porosa Eccezionale Resistenza
,Grafite Isostatica Porosa
Materiale:
grafite isostatica
Colore:
Nero
Forma:
Blocco solido
Descrizione del prodotto
Specifiche e Caratteristiche Dettagliate
Grafite Poroso
Grafite ad alta porosità caratterizzato da eccezionale resistenza, distribuzione ristretta delle aperture e microstruttura uniforme. Questo materiale è ampiamente utilizzato nella produzione di semiconduttori, nella tecnologia delle batterie, nei sistemi catalitici, nelle applicazioni di stoccaggio dell'idrogeno e nei materiali adsorbenti avanzati.
Applicazioni nell'industria dei semiconduttori e miglioramento della qualità dei cristalli
- Regola il rapporto C/Si per minimizzare la probabilità di transizione di fase
- Filtra le impurità per migliorare la qualità dei cristalli
- Fornisce un'uniformità di temperatura superiore nelle zone delle materie prime
- Mantiene tassi di flusso d'aria costanti durante i processi di crescita dei cristalli
- Migliora la morfologia dei cristalli e previene la policristallizzazione dei bordi
Specifiche Tecniche
| Grado | Densità Apparente (g/cm³) | Resistività Elettrica (μΩ·m) | Resistenza alla Compressione (MPa) | Resistenza alla Flessione (MPa) | Conducibilità Termica W/(m·K) | Coefficiente di Espansione Termica (*10⁻⁶/°C) | Porosità (%) | Porosità Chiusa (%) | Dimensione Media del Grano (μm) |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| CTL04K | 1.1 | 40 | 32 | 14.5 | 30 | 5.5 | 46 | 1.5 | 55 |
| CTL05K | 1.2 | 30 | 40 | 19 | 40 | 5.5 | 45 | 2 | 40 |
| CTL06K | 0.9 | 100 | 22 | 9.5 | 25 | 6.7 | 50 | 1.5 | 80 |
Applicazioni Primarie
Produzione di semiconduttori, Componenti aerospaziali, Sistemi di nuova energia, Tecnologia a cuscino d'aria, Strutture di supporto per catalizzatori e applicazioni industriali avanzate.
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