Grafite Poroso de Alta Porosidade, Resistência Excepcional, Grafite Isostático Poroso

Grafite Poroso de Alta Porosidade, Resistência Excepcional, Grafite Isostático Poroso
Propriedades Básicas
Local de Origem: China
Marca: Fangda
Certificação: Iso9001
Propriedades comerciais
Quantidade mínima de pedido: 1 peça
Resumo do Produto
Grafite Poroso Grafite de alta porosidade com resistência excepcional, distribuição de abertura estreita e microestrutura uniforme. Este material é amplamente utilizado na fabricação de semicondutores, tecnologia de baterias, sistemas catalíticos, aplicações de armazenamento de hidrogênio e ...
Atributos personalizados do produto
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Grafite Poroso de Alta Porosidade

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Grafite Poroso de Resistência Excepcional

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Grafite Isostático Poroso

Material:
grafite isostático
Cor:
Preto
Forma:
Bloco sólido
Descrição do produto
Especificações e características pormenorizadas
Grafite Poroso
Grafite de alta porosidade com resistência excepcional, distribuição de abertura estreita e microestrutura uniforme. Este material é amplamente utilizado na fabricação de semicondutores, tecnologia de baterias, sistemas catalíticos, aplicações de armazenamento de hidrogênio e materiais avançados de adsorção.
Aplicações na Indústria de Semicondutores e Melhoria da Qualidade de Cristais
  • Ajusta a razão C/Si para minimizar a probabilidade de transição de fase
  • Filtra impurezas para melhorar a qualidade do cristal
  • Proporciona uniformidade de temperatura superior nas zonas de matéria-prima
  • Mantém taxas de fluxo de ar consistentes durante os processos de crescimento de cristais
  • Melhora a morfologia do cristal e previne a policristalização de borda
Especificações Técnicas
Grau Densidade Aparente (g/cm³) Resistividade Elétrica (μΩ·m) Resistência à Compressão (MPa) Resistência à Flexão (MPa) Condutividade Térmica W/(m·K) Coeficiente de Expansão Térmica (*10⁻⁶/°C) Porosidade (%) Porosidade Fechada (%) Tamanho Médio de Grão (μm)
CTL04K 1.1 40 32 14.5 30 5.5 46 1.5 55
CTL05K 1.2 30 40 19 40 5.5 45 2 40
CTL06K 0.9 100 22 9.5 25 6.7 50 1.5 80
Aplicações Primárias
Fabricação de semicondutores, Componentes aeroespaciais, Novos sistemas de energia, Tecnologia de flutuação de ar, Estruturas de suporte de catalisadores e aplicações industriais avançadas.
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