Марка

Объемная плотность (г/см³)

Удельное электрическое сопротивление (μΩ·m)

Прочность на сжатие (МПа)

Прочность на изгиб (МПа)

Твердость по Шору

Зольность / Очистка (ppm)

Графитизация Очистка (ppm)

Очистка продукта (ppm)

Коэффициент теплового расширения (×10²&sup6;/°C)

Теплопроводность (Вт/м·К)

Модуль Юнга (ГПа)

Применение

CDI-1A

1.85

10–13

200

5.5

133

11.5

Полупроводники, зоны нагрева в фотовольтаической промышленности, спекание керамики, вакуумные печи

CDI-1B

1.80

10–13

200

5.4

121

10.0

Полупроводники, зоны нагрева в фотовольтаической промышленности, спекание керамики, вакуумные печи

CDI-1C

1.82

11–15

100

200

5.6

120

10.6

Полупроводники, зоны нагрева в фотовольтаической промышленности, спекание керамики, вакуумные печи

CDI-1D

1.75

12–16

200

5.8

108

10.0

Полупроводники, зоны нагрева в фотовольтаической промышленности, спекание керамики, вакуумные печи

Графитовый патрон представляет собой прецизионно разработанное приспособление, предназначенное для высокотемпературных и высокочистых производственных сред. Изготовленный из сверхтонкого, высокочистого изотропного графита, он обеспечивает превосходную термическую стабильность, низкое тепловое расширение и превосходную механическую целостность в экстремальных условиях. Его оптимизированная чистота поверхности и точность размеров обеспечивают надежное, равномерное зажимание подложек или заготовок, минимизируя деформацию и образование частиц. Благодаря выдающейся химической инертности графитовый патрон предотвращает загрязнение, что делает его идеальным для полупроводниковой обработки, выращивания кристаллов и применения в вакуумных печах. Настраиваемый по геометрии и вариантам покрытия, он обеспечивает надежную работу, увеличенный срок службы и стабильный контроль процесса в требовательных промышленных операциях.

Графитовый патрон высокой плотности для ЭДМ с низким износом и стабильной производительностью разряда

ЭДМ графит

Углерод-углеродные композиты

углерод-углеродный композитный материал